钼靶材 钼溅射靶材 高纯靶材 

钼靶材是一种工业材料，广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。常规上靶材可分为平面显示靶材、太阳能光伏靶材、磁记录靶材、半导体关联靶材。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。

钼靶密度10.1g/cm3

钼靶熔/沸点：2610℃/5560℃。

钼靶材纯度：99.95%、99.99%

规格：圆形靶，板靶，旋转靶 （可根据客户需求以及图纸定制生产）

钼靶材分类：磁控溅射镀膜靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材。