钨靶材经常作为物理气相沉积用溅射靶材。
纯度：99.95% 99.99%
表面：磨光面
在半导体集成电路中，薄膜科学是开发制造半导体器件非常重要的科研领域。靶材是这种表面镀膜技术中的关键材料，靶材性能的优劣直接影响薄膜性能的好坏，进而影响到整个芯片制造的性能、成本、收益和综合竞争力。
钨靶材经常作为物理气相沉积用溅射靶材，在半导体域用于制作栅电、连接布线、扩散阻挡层等。钨靶材主要应用于航天、稀土冶炼、电光源、化工设备、医疗器械、冶金机械、熔炼设备、石油、等域。钨靶材是氧化钨薄膜在半导体器件实现其功能过渡的重要基体。
我司可提供高纯度定制靶材
钨靶材
升华热： 847.8 kJ/mol(25℃)
蒸发热： 823.85±20.9kJ/mol(沸点)
电阻温度系数： 0.00482 I/℃
电子逸出功： 4.55 eV
尺寸：按需按要求生产
